セラミックトップヒーターは、トッププレー トにAlN窒化アルミ採用した高温・均熱性に優れた熱放射効率の良い薄膜実験用真空ホットプレートです。温度条件、使用環境に応じて使用するヒーター素線の選択が可能。
　

大学・企業基礎研究部門・真空装置メーカー様などで薄膜実験・真空基板加熱用にお使いいただける小型・安価な基板加熱用真空ホットプレートです。CVD, スパッタリングなどで多くの採用実績があります。真空・O2, N2, Arなどの不活性ガス、及び活性ガス環境で使用可能。

基板上下昇降機構、基板回転機構、RF/DCバイアス印加の可能な高機能基板加熱機構。
PLCモーター制御＋温度制御ユニットもご用意致します。