セラミックトップヒーターは、トッププレー トにAlN窒化アルミ採用した高温・均熱性に優れた熱放射効率の良い薄膜実験用真空ホットプレートです。温度条件、使用環境に応じて使用するヒーター素線の選択が可能。
　

大学・企業基礎研究部門・真空装置メーカー様などで薄膜実験・真空基板加熱用にお使いいただける小型・安価な基板加熱用真空ホットプレートです。CVD, スパッタリングなどで多くの採用実績があります。真空・O2, N2, Arなどの不活性ガス、及び活性ガス環境で使用可能。

基板上下昇降機構、基板回転機構、RF/DCバイアス印加の可能な高機能基板加熱機構。
PLCモーター制御＋温度制御ユニットもご用意致します。
　

ICF, NWフランジ接続式, 高真空対応シースタイプ熱電対。CVD, PVDなどの真空装置組込用。ステンレス,もしくはインコネルシース材を使用しており真空中での放出ガスが無く、クリーン環境でもご使用いただけます。
標準のICF, NW以外の接続下記図面形状以外の熱電対も都度ご要求に応じます。

低価格・高精度ウエハー均熱性測定用センサー。K、及びR熱電対装置内基板温度を直接測定することで迅速な温度管理が可能。
シリコン、化合物、ガラス、マスクブランクス他さまざまな基板種類に対応、サイズ：2〜12inch、角型基板。

百年という歳月を、『磨き』に込めた技術がある。
1918年創業。 山口県下松市に本社、工場を構え、電解研磨・バフ研磨・電解複合研磨を主とした金属表面処理事業を行なっております。 医薬・半導体・プラント・鉄道業界で活躍中！

パルスAC方式 エリアイオナイザ ER-X
高速除電&エアレス対応

『無風（エアレス）』『微風』『高速』のあらゆる除電で、多様なアプリケーションに対応

浜松ホトニクスは「二次電池」・「FPD」・「タッチパネル」などの製造過程の多岐にわたる工程で有用な製品を提供することでお客様のタクトタイムの短縮等に貢献いたします。

　

UV接着に最適な条件での照射を可能とするUVスポット光源から、研究開発・小ロット生産ラインなどあらゆる場面で活躍するUV・可視スポット光源まで、常に市場の要求を満たす仕様を追求し、効率的な生産を実現するスポット光源ラインナップをご紹介します。

フォトイオナイザは、クリーンなイオン生成方式「Photoionization（光電離）」を利用した静電気除去装置です。従来のコロナ放電方式とは違い、「塵や電磁ノイズ、オゾン」の発生しないクリーンな除電です。また、イオン生成バランスが均等であるため、逆帯電を起こすことがありません。