湿式分散機　新型ナノ分散機　　「デュアルアペックスミル」

	寿工業（株）
	東京都新宿区新宿1-8-1　大橋御苑駅ビル2F　　TEL 03-3226-6511　FAX 03-3226-9778

DAM-1

0.015mmビーズ対応　超ナノ分散　湿式分散機

デュアルアペックスミルは、ビーズ攪拌部と分離部を独立させることにより、ビーズ分離を確実に行いながら、最適な分散力の設定が可能となりました。
従来機よりも攪拌部は低周速で微小ビーズを使用することにより、効果的なナノ粒子の分散が行えます。　

B013-07

製品名

湿式分散機　新型ナノ分散機　　「デュアルアペックスミル」

メーカー

寿工業（株）　＜旧社名：コトブキ技研工業（株）＞

特長

●	ビーズ分離
	ビーズ分離に遠心力を利用したセントリーセパレータ（スクリーンレス）の採用により、微小ビーズにも対応が可能となります。

●	2軸方式
	セントリーセパレータとローターブレードを別駆動にした事で、低周速の分散でもセントリーセパレータの遠心力を低下させずに運転する事が可能となります。

●	低シェア分散を実現
	ローターブレード周速を2m/secまで落とせる為、これまで不可能であった極めて粒子へのダメージが少ない低シェア分散を可能としました。
	※結晶破壊・チッピング・金属の扁平化が低減

●	増粘抑制
	低周波での分散により粒子へのダメージを最小限に押さえ、製品の増粘を抑制することが可能となります。

用途

有機顔料（液晶顔料、インクジェット顔料）、酸化チタン（紫外線遮断剤、光触媒）、チタン酸バリウム（積層コンデンサー）、電池材料、金属
　

■ 構造

従来機［UAM］では1本のシャフト（軸）にセントリーセパレータ及びローターブレードが取り付けられていましたが、新型機［DAM］はシャフトを2本にする事でセントリーセパレータとローターブレードが独立しております。

■ 機種

（ 649 KB ）

寿工業（株）