絶対圧およびゲージ圧測定 Ceraphant PTC31B/PTP31B/33B

 

エンドレスハウザー ジャパン(株)



絶対圧およびゲージ圧測定 Ceraphant PTC31B
Ceraphant PTC31B
  Ceraphantは、高い信頼性と耐久性が求められるプロセスオートメーションで長年の実績を持つEndress+Hauserが提供する圧力センサです。
センサ部はステンレス筐体に収められ、保護等級IP66/67を実現。
スイッチ出力に加えて、連続計測に対応する4-20mA電流出力も選択可能です。
更に、IO-Link対応も選択可能で外部から機器の設定変更やゼロ調整などが実施可能。
プロセス圧力コントロールからタンクレベル監視・制御まで幅広い用途に対応します。
幅広い用途でお使いいただけるPTP31Bから高い安定性と耐真空性を持つセラミックセンサ搭載のPTC31B、製薬や食品などハイジェニック用途に対応するPTP33Bをラインアップしています。


ID A094-12
製品名 絶対圧およびゲージ圧測定 Ceraphant PTC31B/PTP31B/33B
メーカー エンドレスハウザー ジャパン(株)


■ ラインナップ

 絶対圧およびゲージ圧測定 Ceraphant PTC31B

絶対圧およびゲージ圧測定 Ceraphant PTC31B   オイルフリーのセラミックセンサを搭載したコストパフォーマンスに優れた気体および液体用デジタル圧力スイッチ

Ceraphant PTC31Bはセラミック製の耐真空測定センサを搭載した魅力的な価格の圧力スイッチで、絶対圧またはゲージ圧を監視します。一体型のこの圧力スイッチは、高い安定性と0MPa abs.までの真空耐性を持ちます。

利点
内蔵されたスイッチングユニットにより中央分散型の経済的なプロセスの監視と制御を実現
LEDおよびデジタル表示器による容易な機能確認および現場情報
静電容量式セラミックドライセルセンサ(Ceraphire)と0〜2kPaの最小スパンによりプロセスを確実に把握
真空アプリケーションおよび腐食性や摩耗性を持つ液体を用いるアプリケーションの高いプロセス可用性を実現

アプリケーション
気体や蒸気、液体および粉体中の絶対圧およびゲージ圧の監視に適したセラミックダイアフラムセンサ付きの圧力スイッチです。
プロセス接続:ねじ込み
プロセス温度:-25〜+100℃
プロセス圧力:-0.1/0〜+4MPa
精度:±0.3%
 


 絶対圧およびゲージ圧測定 Ceraphant PTP31B

絶対圧およびゲージ圧測定 Ceraphant PTP31B   完全溶接のメタルセンサを搭載したコストパフォーマンスに優れた気体、蒸気および液体用圧力スイッチ

Ceraphant PTP31Bはピエゾ抵抗式センサを搭載した魅力的な価格の圧力スイッチで、絶対圧またはゲージ圧を監視します。一体型のこの圧力スイッチは、高い安定性と40MPaまでの過大圧耐性を持ちます。

利点
内蔵されたスイッチングユニットにより中央分散型の経済的なプロセスの監視と制御を実現
LEDおよびデジタル表示器による機能確認および現場情報
最大40MPaまでの過大圧耐性に優れたセンサ
小型のフラッシュマウントプロセス接続

アプリケーション
気体や蒸気、液体および粉体中の絶対圧およびゲージ圧の監視に適したメタルダイアフラムを搭載した圧力スイッチです。
プロセス接続:ネジ込み
プロセス温度:-40〜+100℃
プロセス圧力:40kPa〜+40MPa
リファレンス精度:最大±0.3%



 絶対圧およびゲージ圧測定 Ceraphant PTP33B

絶対圧およびゲージ圧測定 Ceraphant PTP33B   完全溶接された絶対圧/ゲージ圧メタルセンサ搭載のサニタリアプリケーションに最適なコストパフォーマンスに優れた圧力スイッチ。

Ceraphant PTP33Bは316L製ダイアフラムを搭載した魅力的な価格の圧力スイッチで、絶対圧またはゲージ圧を監視します。コンパクトな設計の圧力スイッチなので、 極めて安定しており、過大圧に高い耐久性を有しています。ステンレスハウジングバージョンのPTP33Bは3-AおよびEHEDG認定を取得しています。

利点
内蔵されたスイッチングユニットにより中央分散型の経済的なプロセスの監視と制御を実現
LEDおよびデジタル表示器による機能確認および現場情報
サニタリアプリケーションに最適の一体型圧力伝送器
CIP/SIP洗浄に対応
3-AおよびEHEDG認定のフラッシュマウント型小型サニタリプロセス接続

アプリケーション
気体や蒸気、液体および粉体中の絶対圧およびゲージ圧の監視に適した圧力スイッチです。
プロセス接続:サニタリ接続、ネジ込み
プロセス温度:-10〜+100℃、1時間まで+135℃
プロセス圧力:40kPa〜+4MPa
リファレンス精度:最大±0.3%


 

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